利用報告書 / User's Report

【公開日:2023.07.28】【最終更新日:2023.05.29】

課題データ / Project Data

課題番号 / Project Issue Number

22AT0117

利用課題名 / Title

ダイヤモンド横型Schottky-pnダイオード開発

利用した実施機関 / Support Institute

産業技術総合研究所

機関外・機関内の利用 / External or Internal Use

内部利用(ARIM事業参画者以外)/Internal Use (by non ARIM members)

技術領域 / Technology Area

【横断技術領域 / Cross-Technology Area】(主 / Main)加工・デバイスプロセス/Nanofabrication(副 / Sub)-

【重要技術領域 / Important Technology Area】(主 / Main)量子・電子制御により革新的な機能を発現するマテリアル/Materials using quantum and electronic control to perform innovative functions(副 / Sub)高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed

キーワード / Keywords

ダイヤモンド,ダイヤモンドShottky-pnダイオード,ダイヤモンド基板


利用者と利用形態 / User and Support Type

利用者名(課題申請者)/ User Name (Project Applicant)

牧野 俊晴

所属名 / Affiliation

産業技術総合研究所

共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
利用形態 / Support Type

(主 / Main)技術代行/Technology Substitution(副 / Sub)-


利用した主な設備 / Equipment Used in This Project

AT-023:電子ビーム真空蒸着装置


報告書データ / Report

概要(目的・用途・実施内容)/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)

 ダイヤモンドは、高い絶縁破壊電界、高い熱伝導率、高い移動度、等の優れた材料物性を持っている一方で、不純物(ドナー、アクセプター)レベルが深く、活性化率が低い。したがってSchottky接合やpn接合ダイオード構造を形成した場合、p型・n型層のキャリア濃度が低く,順方向での電流密度を上げられなかった。これらの欠点を克服するために、n型Schottky接合とp+n接合を組み合わせた新規な構造の「ダイヤモンドShottky-pnダイオード」を作製し、これまでに順方向での電流密度を室温において104 A/cm2まで増加させることに成功した。本研究では、逆方向の耐圧を増加させるために、新たにダイオードの構造を縦型から横型へと改良を行った。

実験 / Experimental

【利用した主な装置】
プラズマアッシャー【NPF021】
電子ビーム真空蒸着装置【NPF023】

【実験方法】
 マイクロ波プラズマCVD装置でダイヤモンド基板上にn層(リン濃度:1015 cm-3)を成膜し、さらにその上にフォトリソグラフィ・メタルデポ・リフトオフ工程で作製したメタルマスクパターンを用いた選択成長法によりp+層(ボロン濃度:1020 cm-3)を形成した。次にp+層上にオーミック電極(Ti/Pt/Au)を形成し、最後にn層上にSchottky電極(Mo)を形成した。オーミック電極・Schottky電極とも、メタルマスクパターンの形成と同様のプロセス工程を用いた。

結果と考察 / Results and Discussion

 図1にダイヤモンド横型Schottky-pnダイオードの模式図を示す。設計では、p+層とSchottky電極の間の距離(すなわちn層の幅d)が長いほど耐圧を増加させることができる。そこで、n層の幅を、d=1~7umと変えたデバイスを形成した。図2に実際に作製したダイオードの光学顕微鏡写真を示す。p+層の選択成長、オーミック電極の形成は問題なくできているが、n層の幅は設計値通りには形成できておらず、課題が残った。今後は、EBリソグラフィを用いる等、より精度が出せる方法でデバイス形成を行っていく予定である。

図・表・数式 / Figures, Tables and Equations


図1 ダイヤモンド横型Schottky-pnダイオードの模式図



図2 ダイヤモンド横型Schottky-pnダイオードの光学顕微鏡像


その他・特記事項(参考文献・謝辞等) / Remarks(References and Acknowledgements)

共同研究者:筑波大学 櫻井岳暁様、池谷光貴様


成果発表・成果利用 / Publication and Patents

論文・プロシーディング(DOIのあるもの) / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents

特許出願件数 / Number of Patent Applications:0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents:0件

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