【公開日：2023.07.28】【最終更新日：2023.05.29】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
22AT0050
利用課題名 / Title
ニッケル電極を有するガス電子増幅用ガラス基板の開発
利用した実施機関 / Support Institute
産業技術総合研究所 / AIST
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
外部利用/External Use
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed（副 / Sub）その他/Others
キーワード / Keywords
ガス電子増幅用ガラス基板,ガス電子増幅基板,放電耐性,貫通穴
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
伏江 隆
所属名 / Affiliation
株式会社レジメント・ラボ
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）-
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
本年度は、電極材料を耐放電性の高いニッケル（従来は銅電極）へ変更することで、電極の放電による劣化を銅電極より優れたニッケル電極への変更を行った。ニッケルは、銅と比較して融点で約400℃沸点で約300℃程度高い。
上記ガラス基板をガス電子増幅基板としての動作確認を産総研 計量標準総合センターの藤原様に評価を頂き、良好な特性であることを確認した。
放電耐性に関しては、次年度報告の予定。
実験 / Experimental
【利用した主な装置】
【NPF015】酸アルカリドラフトチャンバー
【NPF014】有機ドラフトチャンバー
【NPF095】RF-DCスパッタ装置(芝浦)
【実験方法】
露光処理した感光性ガラスをHF(5 %)でエッチングした。その時のガラスサイズは□145 mm*0.57 mmt ガラス基板中央に□100 mmエリア内に約14万個の貫通穴を形成した。その時の貫通穴径は0.17 mmφであり、穴のピッチは0.28 mmである。このガラス基板の表裏にニッケル電極を形成することでガス電子増幅用の基板とした。
この基板を産総研計量標準総合センターの藤原様に特性評価して頂いた。チェンバー内にガラス基板を入れ、アルゴンガスを封入し、放射線源は 55Feを使用し5.9 keVのX線照射をした(Fig. 1)。
Fig. 2は、従来の銅電極とニッケル電極基板を評価したエネルギースペクトルである。
結果と考察 / Results and Discussion
Fig. 2の赤線はエネルギースペクトルで、青線は、電流によるノイズの影響を示したもので、(A)が銅電極で(B)がニッケル電極である。
(A)と(B)を比較し、ニッケル電極は銅電極と同様の特性を示していることが分かった。本年度は、ニッケル電極を有するガラス基板の特性評価までであったが、次年度はニッケル電極の放電耐久性について評価する。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
Fig. 1 Evaluation device.(Source:Fujiwara@AIST)
Fig. 2 Energy spectra for an 55Fe source (A:Cu electrode B:Ni electrode).(Source:Fujiwara@AIST)
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
産業技術総合研究所NPF 中島様には、様々な助言を頂き、感謝の念にたえません。本当にありがとうございました。また産業技術総合研究所の藤原様にはご評価して頂き、誠にありがとうございました。
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件