【公開日：2023.07.31】【最終更新日：2023.05.30】

課題データ / Project Data

課題番号 / Project Issue Number

22UT0416

利用課題名 / Title

反強磁性金属薄膜での磁気光学効果

利用した実施機関 / Support Institute

東京大学 / Tokyo Univ.

機関外・機関内の利用 / External or Internal Use

内部利用（ARIM事業参画者）/Internal Use (by ARIM members)

技術領域 / Technology Area

【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）計測・分析/Advanced Characterization（副 / Sub）-

【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）革新的なエネルギー変換を可能とするマテリアル/Materials enabling innovative energy conversion（副 / Sub）その他/Others

キーワード / Keywords

赤外・可視・紫外分光/Infrared and UV and visible light spectroscopy,トポロジカル量子物質/ Topological quantum matter,スピントロニクス/ Spintronics,フォトニクス/ Photonics

利用者と利用形態 / User and Support Type

利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)

肥後 友也

所属名 / Affiliation

東京大学

共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes

Hanyi Peng,中辻 知

ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes

利用形態 / Support Type

（主 / Main）技術補助/Technical Assistance（副 / Sub）-

利用した主な設備 / Equipment Used in This Project

UT-303：分光エリプソメータ

報告書データ / Report

概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)

一般的な反強磁性体とは異なり異常ホール効果などの巨大な応答を示すワイル反強磁性体Mn₃Snは、THz帯での超高速駆動が可能な次世代の情報担体として注目を集めている。本研究では、光との協奏デバイスの開発を視野に入れ、Mn₃Sn薄膜の光学特性を明らかにすることを目的にエリプソメーターを用いた光学実験を行った。

実験 / Experimental

実験には熱酸化膜付きのSi基板上に成膜したMn₃Sn薄膜（厚さ: 50, 100, 150 nm）を用いて、分光エリプソメータM-2000DI-T（J.A.Woollam社製）において200-1600 nmの波長における光学定数(n, k)を測定した。

結果と考察 / Results and Discussion

実験の結果、上記波長におけるMn₃Snの光学定数(n, k)や光の侵入長を導出できた。得られた値は、現在進めているMn₃Sn薄膜の示す磁気光学カー効果によるカー回転角や楕円率の膜厚依存性などの計算に用いる予定である。

図・表・数式 / Figures, Tables and Equations

その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)

成果発表・成果利用 / Publication and Patents

論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)

口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.

特許 / Patents

特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件