【公開日：2023.07.31】【最終更新日：2023.05.19】

課題データ / Project Data

課題番号 / Project Issue Number

22UT0407

利用課題名 / Title

アルミ反射部の線幅が製品の性能に及ぼす影響について

利用した実施機関 / Support Institute

東京大学 / Tokyo Univ.

機関外・機関内の利用 / External or Internal Use

外部利用/External Use

技術領域 / Technology Area

【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）計測・分析/Advanced Characterization（副 / Sub）-

【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）その他/Others（副 / Sub）-

キーワード / Keywords

センサー, アルミ微細パターン,電子顕微鏡/Electron microscopy,イオンミリング/Ion milling,リソグラフィ/Lithography,膜加工・エッチング/Film processing and Etching,スパッタリング/Sputtering

利用者と利用形態 / User and Support Type

利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)

松倉　 和浩

所属名 / Affiliation

株式会社エクア

共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes

浪井 亮二

ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes

利用形態 / Support Type

（主 / Main）技術補助/Technical Assistance（副 / Sub）-

利用した主な設備 / Equipment Used in This Project

UT-102：高分解能走査型分析電子顕微鏡
UT-153：クロスセクションポリッシャー(CP)

報告書データ / Report

概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)

アルミ微細パターンを使用したセンサーの試作を行う中でロットにより組み込んだ製品の性能にバラツキがでることが判明した。アルミパターン構造の上には反射防止膜がコートされており、また石英ガラス基板裏面は遮光構造となっており通常の観察では差異を検証することができなかった。そのため今回チップを削り断面を露出させてSEM観察することをお願いしました。

実験 / Experimental

計測の結果、試作ロットによりアルミ線幅に差異が発生していることが判明した。

結果と考察 / Results and Discussion

アルミ線幅を可能な範囲で太く修正、またアルミ成膜方法を変えたものを2種類の試作を行い、最適の組み合わせを検証することとなった。
（１）ステッパー露光条件を変えアルミ線幅を650nmから800nmとなるように条件出しをおこない試作をおこなった。
（２）アルミ成膜では従来レート成膜と低レート成膜のものを作成したが低レートのほうが若干（1パーセント）反射率が高かった。
（３）保護膜を多層膜からSiO2に変更した。
結果的には装置に部品を組み込んだ状態の評価試験ではアルミ成膜については従来レート品のほうが正反射光と回折光の光量バランスはとれていた。引き続き測定ターゲットとしての評価試験を行う予定となっております。

図・表・数式 / Figures, Tables and Equations

その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)

成果発表・成果利用 / Publication and Patents

論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)

口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.

特許 / Patents

特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件