利用報告書 / User's Reports


【公開日:2023.07.31】【最終更新日:2023.05.16】

課題データ / Project Data

課題番号 / Project Issue Number

22UT0394

利用課題名 / Title

廃棄物を用いたコンクリート代替材料の開発

利用した実施機関 / Support Institute

東京大学 / Tokyo Univ.

機関外・機関内の利用 / External or Internal Use

内部利用(ARIM事業参画者以外)/Internal Use (by non ARIM members)

技術領域 / Technology Area

【横断技術領域 / Cross-Technology Area】(主 / Main)計測・分析/Advanced Characterization(副 / Sub)-

【重要技術領域 / Important Technology Area】(主 / Main)マテリアルの高度循環のための技術/Advanced materials recycling technologies(副 / Sub)-

キーワード / Keywords

電子顕微鏡/Electron microscopy,イオンミリング/Ion milling,資源循環技術/ Resource circulation technology


利用者と利用形態 / User and Support Type

利用者名(課題申請者)/ User Name (Project Applicant)

酒井  雄也

所属名 / Affiliation

東京大学

共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes

Liu Lei,Ririt Aprilin Sumarsono

ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes

福川 昌宏,近藤 尭之

利用形態 / Support Type

(主 / Main)機器利用/Equipment Utilization(副 / Sub)-


利用した主な設備 / Equipment Used in This Project

UT-102:高分解能走査型分析電子顕微鏡
UT-153:クロスセクションポリッシャー(CP)


報告書データ / Report

概要(目的・用途・実施内容)/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)

コンクリートがれきを主原料としたリサイクル素材について、圧縮成形後の処理による性能の違いの原因を把握するため、SEM観察を実施した

実験 / Experimental

作製した硬化体をエポキシ樹脂に包埋した後に、クロスセクションポリッシャーで断面作製を行った。その後、高分解能走査型分析電子顕微鏡(JSM-7800F)を用いて、加速電圧10.0kVで二次電子像および反射電子像を取得した。

結果と考察 / Results and Discussion

Fig.1に、コンクリートがれきの圧縮成形後の処理の有無による硬化体性状を比較したSEM像を示す。図より、処理を用いない場合はコンクリートがれきの粒子が粉砕後の形状のまま存在し、粒子間には特に接着の様子などは見られない。一方で処理後には、がれき粒子の形状が変化し、粒子同士に接着が生じているように見える、これにより性能の改善が生じていたものと推察される。

図・表・数式 / Figures, Tables and Equations


(a) Without treatment  Fig. 1 SEM images of compacted concrete waste



(b) With treatmentFig. 1 SEM images of compacted concrete waste


その他・特記事項(参考文献・謝辞等) / Remarks(References and Acknowledgements)

本検討は東京大学 総合研究機構の福川昌宏氏にご指導いただいて実施した。


成果発表・成果利用 / Publication and Patents

論文・プロシーディング(DOIのあるもの) / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents

特許出願件数 / Number of Patent Applications:0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents:0件

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