【公開日：2023.07.31】【最終更新日：2023.05.16】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
22UT0323
利用課題名 / Title
ゼオライト含有塗膜の断面観察
利用した実施機関 / Support Institute
東京大学 / Tokyo Univ.
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
内部利用（ARIM事業参画者以外）/Internal Use (by non ARIM members)
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）計測・分析/Advanced Characterization（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）次世代ナノスケールマテリアル/Next-generation nanoscale materials（副 / Sub）-
キーワード / Keywords
ゼオライト,電子顕微鏡/Electron microscopy,イオンミリング/Ion milling
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
木村 優香
所属名 / Affiliation
東京大学
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）-
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
UT-102：高分解能走査型分析電子顕微鏡
UT-153：クロスセクションポリッシャー(CP)
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
ゼオライトを用いた抗菌剤が世の中に売り出されている。応用先の例として、塗料に混ぜてモノの表面に塗装するということが考えられるが、もしゼオライトが塗膜中の深いところに完全に埋もれてしまっては、本来持つ抗菌効果を発現しづらくなってしまうと推測される。塗膜中でより高い抗菌効果を発揮させるためには、ゼオライトが塗膜中のどこにどのようにして分散しているのかを明らかにし、塗料やゼオライト材のエンジニアリングによって工夫することが重要である。そこで、ゼオライトの塗膜中での分散状態の観察を行った。
実験 / Experimental
４A型ゼオライト（ゼオラム；東ソー株式会社）のサンプルは、購入したそのままの状態のものと、表面を疎水化処理したものを用意した。ゼオライトの表面処理は、テフロン製フラスコを用いて、ヘキシルトリメトキシシランで2時間、95%エタノール溶媒中かつpH9-10の塩基性条件下で、フラスコをオイルバスで80℃に加熱することで行った。表面処理したゼオライトは濾過により回収し、エタノールおよび純水で洗浄したのち、80℃オーブンで十分に乾燥させた。 続いて、ゼオライトを混ぜた塗料を作成した。塗料（ニッペ水性フレッシュワイド 透明クリヤー ；ニッペホームプロダクツ）30gをディスパーで撹拌しながら、ゼオライトサンプル0.5gと純水1.5gを添加してよく混ぜた。その後、脱泡（泡とり練太郎）を行い、1cm角のガラス板に150milのギャップを持つドクターブレードを用いて塗装を行った。塗膜サンプルは約２４時間かけて室温で乾燥させたのち、ArビームによるＣＰ加工を行って断面を切り出し、ＳＥＭによる断面観察を行った。
結果と考察 / Results and Discussion
ゼオライトを表面を疎水化した場合としていない場合とでは、塗膜中のゼオライトの分散状態に大きな違いは見られず、ゼオライトは表面付近にも塗膜中の底の方向にも分散して存在していた。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件