利用報告書 / User's Report

【公開日:2023.07.31】【最終更新日:2023.05.16】

課題データ / Project Data

課題番号 / Project Issue Number

22UT0312

利用課題名 / Title

プラズモニック三重項対消滅型アップコンバージョンにおける金属/アップコンバージョンシステム間の距離依存特性の調査

利用した実施機関 / Support Institute

東京大学

機関外・機関内の利用 / External or Internal Use

外部利用/External Use

技術領域 / Technology Area

【横断技術領域 / Cross-Technology Area】(主 / Main)計測・分析/Advanced Characterization(副 / Sub)-

【重要技術領域 / Important Technology Area】(主 / Main)次世代ナノスケールマテリアル/Next-generation nanoscale materials(副 / Sub)-

キーワード / Keywords

微粒子,形態観察,電子顕微鏡/Electron microscopy


利用者と利用形態 / User and Support Type

利用者名(課題申請者)/ User Name (Project Applicant)

本多 丈太郎

所属名 / Affiliation

日本大学大学院

共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes

福川昌宏

利用形態 / Support Type

(主 / Main)機器利用/Equipment Utilization(副 / Sub)-


利用した主な設備 / Equipment Used in This Project

UT-101:低損傷走査型分析電子顕微鏡


報告書データ / Report

概要(目的・用途・実施内容)/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)

フォトンアップコンバージョンの増強を目的としたプラズモニック材料のガラス基板上への固定化状態を観測するために東京大学の走査型電子顕微鏡により測定を行った.

実験 / Experimental

ガラス基板上に静電的に吸着させた銀ナノ粒子を走査型電子顕微鏡により観察した.また複数の観測図からImageJを用いて被覆率の算出を行った.

結果と考察 / Results and Discussion

Fig.1に観察した三角形形状の銀ナノプレート(AgPRs)のSEM像を示した.高倍率の観測から粒子が三角形の構造を保ちつつガラス基板上に固定化されていることが観測された.また低倍率で測定した結果においても大部分のAgPRsは適切に分散され固定化されていた.取得した画像6枚を使用し,Image Jにより被覆率を算出したところ平均で21%であることが示された.今後は固定化されたAgPRsが三重項対消滅型フォトンアップコンバージョンに与える影響を詳細に調査していく.  

図・表・数式 / Figures, Tables and Equations


Fig.1 SEM image of AgPRs immobilized glass substrate.


その他・特記事項(参考文献・謝辞等) / Remarks(References and Acknowledgements)

 本研究は科研費基盤B(20H02850)の助成を受けて遂行された.


成果発表・成果利用 / Publication and Patents

論文・プロシーディング(DOIのあるもの) / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
  1. 本多丈太郎,須川晃資,大月 穣 “プラズモニック三重項対消滅型フォトンアップコンバージョンシステムにおける金属ナノ粒子/システム間の特異な距離依存性” 光化学討論会2022 令和4年9月15日
  2. 本多丈太郎,須川晃資,大月 穣 “プラズモニック三重項対消滅型アップコンバージョン薄膜の創製:金属/薄膜間距離依存性” 固体・表面光化学討論会2022 令和4年11月16日
特許 / Patents

特許出願件数 / Number of Patent Applications:0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents:0件

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