利用報告書 / User's Reports


【公開日:2023.07.31】【最終更新日:2023.05.16】

課題データ / Project Data

課題番号 / Project Issue Number

22UT0305

利用課題名 / Title

多層膜構造体の各層の厚み測定

利用した実施機関 / Support Institute

東京大学 / Tokyo Univ.

機関外・機関内の利用 / External or Internal Use

内部利用(ARIM事業参画者以外)/Internal Use (by non ARIM members)

技術領域 / Technology Area

【横断技術領域 / Cross-Technology Area】(主 / Main)計測・分析/Advanced Characterization(副 / Sub)-

【重要技術領域 / Important Technology Area】(主 / Main)高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed(副 / Sub)その他/Others

キーワード / Keywords

Multilayer material,X線回折/X-ray diffraction,メタマテリアルメタマテリアル/ Metamaterial


利用者と利用形態 / User and Support Type

利用者名(課題申請者)/ User Name (Project Applicant)

党 棠

所属名 / Affiliation

東京大学

共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes

松井 裕章

ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes

府川 和弘,飯盛 桂子

利用形態 / Support Type

(主 / Main)技術補助/Technical Assistance(副 / Sub)-


利用した主な設備 / Equipment Used in This Project

UT-202:高輝度In-plane型X線回折装置


報告書データ / Report

概要(目的・用途・実施内容)/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)

多層材料中の各層の厚さを小角度XRDにより測定する。

実験 / Experimental

多層材料中の各層の厚さを小角度XRDにより測定する。
ここで、材料は4層のZnOと4層の5%GaをドープしたZnOを交互に配列して構成され、各層の厚さはコーティングの時間から推定して25 nm ~ 30 nmである。

結果と考察 / Results and Discussion

ZnOと5%GaドープZnOの密度差は大きくないため、ソフトウェアで各層の膜厚をシミュレーションするのは非常に難しく、加えて合計8層の膜があるため、膜厚のシミュレーションに困難をもたらした。そのため、最終的には8層の膜全体の厚さしか得られなかった。

図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
その他・特記事項(参考文献・謝辞等) / Remarks(References and Acknowledgements)


成果発表・成果利用 / Publication and Patents

論文・プロシーディング(DOIのあるもの) / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents

特許出願件数 / Number of Patent Applications:0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents:0件

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