【公開日：2023.07.31】【最終更新日：2023.05.23】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
22UT0158
利用課題名 / Title
Characterization of nanoscale mold for antifogging
利用した実施機関 / Support Institute
東京大学
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
内部利用（ARIM事業参画者以外）/Internal Use (by non ARIM members)
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）計測・分析/Advanced Characterization（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）次世代ナノスケールマテリアル/Next-generation nanoscale materials（副 / Sub）-
キーワード / Keywords
集束イオンビーム/Focused ion beam,原子層薄膜/ Atomic layer thin film,メソポーラス材料/ Mesoporous material
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
Mouterde Timothee
所属名 / Affiliation
東京大学 工学系研究科機械工学専攻
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
谷内田大貴
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）-
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
UT-151：集束イオン／電子ビーム 複合ビーム加工観察装置
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
ポリマー材料によるナノ構造体表面の断面形状を観察するため、東京大学の設備を利用してFIB観察を行った。
実験 / Experimental
試料表面を透過型電子顕微鏡試料イオンビーム加工装置（JIB-4600F）で切削し、モニタリング用のSEMを用いて断面形状観察した。試料はナノスケールの穴を有するポリマー表面で、穴の深さを計測することを目的としている。
結果と考察 / Results and Discussion
ポリマー材料であるため、初回はサンプルに数nmの金をコーティングすることによってチャージ防止を試みたが、チャージによるドリフトが確認された。金の薄膜を200nmほど蒸着しポリマーとの界面を観察することによって表面形状を推測する試みによってチャージの影響を低減することが可能となった。また、当初は構造のスケールが小さいため(数百nm)FIBによる構造へのダメージが懸念されたが、観察の結果構造への影響は見られなかった。その結果、ポリマー表面の断面形状を観察することができる。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件