【公開日：2023.07.31】【最終更新日：2023.05.23】

課題データ / Project Data

課題番号 / Project Issue Number

22UT0158

利用課題名 / Title

Characterization of nanoscale mold for antifogging

利用した実施機関 / Support Institute

東京大学 / Tokyo Univ.

機関外・機関内の利用 / External or Internal Use

内部利用（ARIM事業参画者以外）/Internal Use (by non ARIM members)

技術領域 / Technology Area

【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）計測・分析/Advanced Characterization（副 / Sub）-

【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）次世代ナノスケールマテリアル/Next-generation nanoscale materials（副 / Sub）-

キーワード / Keywords

集束イオンビーム/Focused ion beam,原子層薄膜/ Atomic layer thin film,メソポーラス材料/ Mesoporous material

利用者と利用形態 / User and Support Type

利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)

Mouterde Timothee

所属名 / Affiliation

東京大学　工学系研究科機械工学専攻

共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes

谷内田大貴

ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes

利用形態 / Support Type

（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）-

利用した主な設備 / Equipment Used in This Project

UT-151：集束イオン／電子ビーム 複合ビーム加工観察装置

報告書データ / Report

概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)

ポリマー材料によるナノ構造体表面の断面形状を観察するため、東京大学の設備を利用してFIB観察を行った。

実験 / Experimental

試料表面を透過型電子顕微鏡試料イオンビーム加工装置（JIB-4600F）で切削し、モニタリング用のSEMを用いて断面形状観察した。試料はナノスケールの穴を有するポリマー表面で、穴の深さを計測することを目的としている。 

結果と考察 / Results and Discussion

ポリマー材料であるため、初回はサンプルに数nmの金をコーティングすることによってチャージ防止を試みたが、チャージによるドリフトが確認された。金の薄膜を200nmほど蒸着しポリマーとの界面を観察することによって表面形状を推測する試みによってチャージの影響を低減することが可能となった。また、当初は構造のスケールが小さいため(数百nm)FIBによる構造へのダメージが懸念されたが、観察の結果構造への影響は見られなかった。その結果、ポリマー表面の断面形状を観察することができる。

図・表・数式 / Figures, Tables and Equations

その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)

成果発表・成果利用 / Publication and Patents

論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)

口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.

特許 / Patents

特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件