利用報告書 / User's Reports


【公開日:2023.07.31】【最終更新日:2023.05.16】

課題データ / Project Data

課題番号 / Project Issue Number

22UT0025

利用課題名 / Title

精密無機合成による新規ナノ材料の構造解明

利用した実施機関 / Support Institute

東京大学 / Tokyo Univ.

機関外・機関内の利用 / External or Internal Use

外部利用/External Use

技術領域 / Technology Area

【横断技術領域 / Cross-Technology Area】(主 / Main)計測・分析/Advanced Characterization(副 / Sub)-

【重要技術領域 / Important Technology Area】(主 / Main)次世代ナノスケールマテリアル/Next-generation nanoscale materials(副 / Sub)-

キーワード / Keywords

X線回折/X-ray diffraction,電子分光,原子層薄膜/ Atomic layer thin film


利用者と利用形態 / User and Support Type

利用者名(課題申請者)/ User Name (Project Applicant)

神戸  徹也

所属名 / Affiliation

東京工業大学

共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes

山元公寿

ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes

府川和弘,飯盛桂子

利用形態 / Support Type

(主 / Main)機器利用/Equipment Utilization(副 / Sub),技術補助/Technical Assistance


利用した主な設備 / Equipment Used in This Project

UT-451:粉末X線回折装置
UT-301:多機能走査型X線光電子分光分析装置(XPS)
UT-203:粉末X線回折装置


報告書データ / Report

概要(目的・用途・実施内容)/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)

新規に精密合成した無機材料の構造解析を目的として、X線結晶構造解析および光電子分光測定を行った。

実験 / Experimental

構造解析はリガク株式会社 (Rigaku Co.) SmartLab (Kα1), (3kW)を用いて行った。サンプルはキャピラリーに封緘して、回転させながら測定した。また光電子分光測定を行うことで、微量サンプルにおける金属元素の酸化状態に対する情報を得た。

結果と考察 / Results and Discussion

得られた回折シグナルをシミュレーション結果と比較することで、目的とする精密無機材料の構造決定を達成した。この結果、層間カチオンのサイズによるナノ材料の構造の変化を明らかにすることができた。光電子分光測定により、合金化による電子状態の変化をとらえることができ、触媒活性との関係を調べることで高活性を生み出す金属電子状態について新たな知見を得ることができた。

図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
その他・特記事項(参考文献・謝辞等) / Remarks(References and Acknowledgements)

本実験は沖津 康平様、府川 和弘様の支援を受けて行いました。深く感謝申し上げます。


成果発表・成果利用 / Publication and Patents

論文・プロシーディング(DOIのあるもの) / DOI (Publication and Proceedings)
  1. Tetsuya Kambe, Development of Precisely Controlled Structures Containing Main Group Elements for Preparing Superatoms, Chemistry Letters, 51, 966-970(2022).
    DOI: 10.1246/cl.220291
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents

特許出願件数 / Number of Patent Applications:0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents:0件

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