【公開日：2023.08.01】【最終更新日：2023.05.22】

課題データ / Project Data

課題番号 / Project Issue Number

22KT1281

利用課題名 / Title

ガラス上のマイクロピラーの作製

利用した実施機関 / Support Institute

京都大学 / Kyoto Univ.

機関外・機関内の利用 / External or Internal Use

外部利用/External Use

技術領域 / Technology Area

【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）-

【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）マルチマテリアル化技術・次世代高分子マテリアル/Multi-material technologies / Next-generation high-molecular materials（副 / Sub）-

キーワード / Keywords

プロセス条件検討,膜加工・エッチング/Film processing and Etching,3D積層技術/ 3D lamination technology

利用者と利用形態 / User and Support Type

利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)

加藤 嘉成

所属名 / Affiliation

日本電気硝子株式会社

共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes

李佳龍

ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes

今井憲次

利用形態 / Support Type

（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）,技術相談/Technical Consultation

利用した主な設備 / Equipment Used in This Project

KT-105：両面マスクアライナー
KT-209：磁気中性線放電ドライエッチング装置
KT-110：レジスト現像装置
KT-111：ウエハスピン洗浄装置
KT-203：電子線蒸着装置

報告書データ / Report

概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)

前回、ソーダライムガラス(SLS)上へのピラー作製を行った結果、作製領域の一部にピラーがなかった。また、ピラーの 上面は歪みがあり、サンプルによって形状、径、高さにバラツキが生じた。今回、Cr膜厚を100nmまで薄くし、Crウェッ トエッチング後の　レジスト構造を確認し、ガラスエッチングまでの調査を行った。

実験 / Experimental

SLSガラスを、同じプロセスでピラーを作製した(サンプルサイズ30 x 30 x 0.5 mm)。
 Cr膜蒸着(100nm厚に変更)⇒レジスト塗布(TCIR-ZR8800)⇒パターン露光⇒レジスト現像⇒Crウェットエッチング⇒顕微鏡でレジスト構造観察⇒ドライエッチング

結果と考察 / Results and Discussion

Fig. 1 にCrウェットエッチング後のレジストとCr構造の写真を示す。倒れたレジストの下部が細くなり、その下にあるCrの径も縮小していることがわかった。露光時間が長すぎてレジストの下部も現像され、逆テーパーになったためと考える (Fig. 2)。Fig. 3にガラスエッチング後のSEM画像を示す。径の縮小したCrの影響で、ピラーの上面も縮小しいびつな形になっている。この逆テーパーのレジスト構造を改善するため、レジスト膜厚の縮小と露光エネルギーの低下させる最適化が必要である。現在、まずレジスト膜厚を狙いの値(4.4um)にするため、塗布の回転数と膜厚の相関性を調査している。

図・表・数式 / Figures, Tables and Equations

Fig.1 Microscope images of (a) photoresist columns and (b)Cr layers after Cr etching. Cr layers below standing photoresist columns could be easily observed by adjusting microscope focus.

Fig.2 Schematic diagrams for explaining the photoresist columns with screw shape due to overexposure.

Fig. 3 (a)(b) SEM images of micropillar fabrications in SLS glasses and (c)(d) their images tilted by 50 degrees.

その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)

成果発表・成果利用 / Publication and Patents

論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)

口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.

特許 / Patents

特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件