【公開日：2023.08.01】【最終更新日：2023.05.21】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
22KT1203
利用課題名 / Title
熱流束を直接測定する積層センサの開発
利用した実施機関 / Support Institute
京都大学 / Kyoto Univ.
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
外部利用/External Use
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）マルチマテリアル化技術・次世代高分子マテリアル/Multi-material technologies / Next-generation high-molecular materials（副 / Sub）高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed
キーワード / Keywords
リソグラフィ・露光・描画装置, 成膜・膜堆積, 温度測定, 熱流束測定,リソグラフィ/Lithography,スパッタリング/Sputtering,MEMSデバイス/ MEMS device,3D積層技術/ 3D lamination technology
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
出島 一仁
所属名 / Affiliation
滋賀県大学工学部機械システム工学科
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
脇坂頼明,横山友輝
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
赤松孝義,諫早伸明,今井憲次
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）-
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
KT-104：高速マスクレス露光装置
KT-107：厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
KT-110：レジスト現像装置
KT-111：ウエハスピン洗浄装置
KT-201：多元スパッタ装置（仕様Ａ）
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
燃焼場の伝熱研究のため，温度・熱流束測定用の測温抵抗体に加え，薄膜型イオンプローブを集積化したセンサを開発する．今回新たに製作するイオンプローブは，電圧を印加した電極を燃焼場に露出させることで，火炎中のイオンを電流として検知するものである．
実験 / Experimental
熱酸化膜付きシリコンウエハを基板として用い，チタンバッファ層20 nmを介して白金薄膜を200 nm成膜した．パターニングは高速マスクレス露光装置による露光とリフトオフによって行い，イオンプローブ3つと測温抵抗体1つを1つのチップ上に集積させた．その上に，SiO2を200nm成膜し，保護膜とした．ただし，イオンプローブの電極部分は燃焼場に露出させる必要があるため，この部分のSiO2はリフトオフにより除去した．
結果と考察 / Results and Discussion
図1に製作したセンサを示す．中央に測温抵抗体，それを囲むように3つのイオンプローブが形成されている．適切なイオンプローブデザインを検討するため，図1のセンサでは電極面積を変化させている．今後燃焼実験を行い，計測に適したイオンプローブのデザインを探っていく予定である．
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
図1 Resistance temperature detector and ion probes
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
なし。
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件