利用報告書 / User's Reports


【公開日:2023.08.01】【最終更新日:2023.05.08】

課題データ / Project Data

課題番号 / Project Issue Number

22KT1179

利用課題名 / Title

ナノ粒子を用いた透明な機能性材料およびデバイスの開発

利用した実施機関 / Support Institute

京都大学 / Kyoto Univ.

機関外・機関内の利用 / External or Internal Use

外部利用/External Use

技術領域 / Technology Area

【横断技術領域 / Cross-Technology Area】(主 / Main)計測・分析/Advanced Characterization(副 / Sub)-

【重要技術領域 / Important Technology Area】(主 / Main)マルチマテリアル化技術・次世代高分子マテリアル/Multi-material technologies / Next-generation high-molecular materials(副 / Sub)次世代ナノスケールマテリアル/Next-generation nanoscale materials

キーワード / Keywords

ナノ粒子,形状・形態観察,3D積層技術/ 3D lamination technology,ナノ粒子/ Nanoparticles


利用者と利用形態 / User and Support Type

利用者名(課題申請者)/ User Name (Project Applicant)

中川 徹

所属名 / Affiliation

株式会社OPTMASS

共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
利用形態 / Support Type

(主 / Main)機器利用/Equipment Utilization(副 / Sub)-


利用した主な設備 / Equipment Used in This Project

KT-333:触針式段差計(加工評価室)
KT-306:3D測定レーザー顕微鏡


報告書データ / Report

概要(目的・用途・実施内容)/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)

機能性材料やデバイスの特性は、ナノ粒子の形状、ナノ粒子膜およびこれに積層した薄膜の表面形状や膜厚に大きく影響を受ける。デバイスを構成する薄膜の厚みとデバイスの性能の関係を明らかにすることを最終目的とし、今回は、薄膜の膜厚を接触式段差計とレーザー顕微鏡を用いて調べた。

実験 / Experimental

① 試料の作製方法
・CuSナノ粒子薄膜、ITOナノ粒子薄膜:CuS、もしくはITOナノ粒子が分散した溶液をガラス基板上にスピンコート法で塗布。・CdS薄膜:真空スパッタリング法でガラス基板上にCdS薄膜を成膜
② 測定方法
薄膜をピンセットで削り取りガラス基板を露出させた。露出した領域を接触式段差計、またはレーザー顕微鏡で測定し膜厚を導出した。

結果と考察 / Results and Discussion

一例として、図1に、レーザー顕微鏡で測定したCuS薄膜の像を、図2に、接触式段差計で測定したITO薄膜の断面像を示す。CuS膜は、接触式段差計の探針で傷がつき正確な膜厚測定ができなかったので、レーザ顕微鏡で測定した。ITO薄膜に関しては、接触式段差計とレーザー顕微鏡の両方で膜厚を測定した。測定方法によらず膜厚は同じであった。今回測定したデータを用い、デバイス性能と膜厚の相関を調べる予定である。

図・表・数式 / Figures, Tables and Equations


図1 CuS薄膜のレーザ顕微鏡写真



図2 ITO薄膜の断面像


その他・特記事項(参考文献・謝辞等) / Remarks(References and Acknowledgements)

なし


成果発表・成果利用 / Publication and Patents

論文・プロシーディング(DOIのあるもの) / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents

特許出願件数 / Number of Patent Applications:0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents:0件

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