【公開日：2023.08.01】【最終更新日：2023.05.16】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
22KT1135
利用課題名 / Title
ガラス上のマイクロﾋﾟﾗｰの作製
利用した実施機関 / Support Institute
京都大学
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
外部利用/External Use
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）マルチマテリアル化技術・次世代高分子マテリアル/Multi-material technologies / Next-generation high-molecular materials（副 / Sub）-
キーワード / Keywords
ガラス基板,マイクロピラー,リソグラフィ/Lithography,膜加工・エッチング/Film processing and Etching,蒸着・成膜/Evaporation and Deposition,EB,3D積層技術/ 3D lamination technology
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
加藤 嘉成
所属名 / Affiliation
日本電気硝子株式会社
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
李佳龍
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
今井憲次
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）,技術代行/Technology Substitution
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
KT-105：両面マスクアライナー
KT-209：磁気中性線放電ドライエッチング装置
KT-110：レジスト現像装置
KT-111：ウエハスピン洗浄装置
KT-203：電子線蒸着装置
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
前回技術代行によりソーダーライム(SLS) ガラスを含む4種ガラス組成のマイクロピラー作製ができた(F21016)。今後、目標 にしているアルミノンシリケートﾉ(AS)ガラスのピラー作製を自ら行う必要がある。今回ASガラスに近いSLSガラスをテストガラスとしてピラー作製手法を学び、そのばらつきを評価した。
実験 / Experimental
SLSガラスを4枚準備し(Sample01~04)、同じﾌﾟﾛｾｽでピラーを作製した(サンプルサイズ30 x 30 x 0.5 mm)。作製ﾌﾟﾛｾｽは前回(F21016)と同じにした。
Cr膜蒸着(200nm厚)⇒レジスト塗布(TCIR-ZR8800) ⇒パターン露光⇒レジスト現像⇒Crウェットエッチング⇒ドライエッチング
結果と考察 / Results and Discussion
Fig. 1 に同条件で処理したｶﾞﾗｽｻﾝﾌﾟﾙの外観写真を示す。ピラー作製領域(青枠)にピラーがない領域が見られる (Sample04はほとんどなし）。Fig.2にSample01～03のピラーのSEM写真を、Table.1に形状の測定結果 を示す。また、Table.2にSEMによるピラーの形状測定結果を示す。ピラーの上面はゆがみがあり、サンプルにより形 状、径・高さにばらつきがある。また、前回の作製ピラーと形状が大きく異なる。その後のテスト結果によると現 像後の柱状に残っているレジストの下部が細いと予想され、露光時間が長くて内部露光が進行したことが不均一な 形状の原因と推定した。次回は露光時間が形状に与える影響を確認し、形状の均一化に適切な時間を検討する 予定である。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
Fig.1 Appearance of pillar samples
Fig.2 SEM images of fabricated pillars.
Table 1 Pillar geometry measured by SEM.
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件