【公開日：2023.08.01】【最終更新日：2023.05.08】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
22KT1086
利用課題名 / Title
高強度テラヘルツ波パルス発生と分子制御研究への応用
利用した実施機関 / Support Institute
京都大学 / Kyoto Univ.
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
外部利用/External Use
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）計測・分析/Advanced Characterization（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）マルチマテリアル化技術・次世代高分子マテリアル/Multi-material technologies / Next-generation high-molecular materials（副 / Sub）-
キーワード / Keywords
テラヘルツ波波形計測,分子制御,有機非線形結晶,電場波形,電気計測,赤外・可視・紫外分光/Infrared and UV and visible light spectroscopy
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
横山 啓一
所属名 / Affiliation
日本原子力研究開発機構 物質科学研究センター
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）-
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
テラヘルツ波パルス列により、高効率かつ高選択的なエネルギー注入技術が創出される可能性がある。その原理実証のため、ナノハブ拠点保有のCr4+:Forsteriteレーザーを用いたテラヘルツ波パルス発生技術の確立を目的として実験を行っている。今回もテラヘルツ波パルスの波形計測及び発生特性把握を目指して実験を継続した。
実験 / Experimental
テラヘルツ波の波形計測にはこれまでと同じEOサンプリング法を採用し対向入射配置で計測した。前回の結果からOH１結晶中でのテラヘルツ波による偏光面の回転に加えて励起光による屈折率変化が測定に影響している可能性が示唆された。そのため結晶位置でのプローブ光のイメージを観測したところFig. 1に示すようにポンプ光とプローブ光が時間的空間的に重なるとリング状のパターンになることがわかった。これは屈折の影響と考えられ、波形計測にも屈折が影響していると思われる。続いてテラヘルツ波の波形のうち結晶中での１回反射と３回反射により屈折の影響に差が出る可能性に着目し波形計測実験を行った。
結果と考察 / Results and Discussion
Fig. 2に示すように1回反射と３回反射による波形は1ps以内では異なっていることがわかった。このことから、１回反射の1ps以内では励起光との重なりが残っているために計測波形に影響が現れたと考えられる。今後は、時間波形の解析により屈折の影響をさらに詳しく調べ、屈折の影響を排除した波形測定方法を探る。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
Fig.１ Images of the probe beam on the OH1 crystal. (Left) No temporal overlap between the probe and pump beams, (Right) Both beams overlap in time and space.
Fig. 2. Terahertz waveform measured with the delays for a single and triple reflections of the terahertz wave.
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件