【公開日：2023.08.01】【最終更新日：2023.05.16】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
22KT1001
利用課題名 / Title
ガラス上のマイクロピラーの作製
利用した実施機関 / Support Institute
京都大学
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
外部利用/External Use
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）マルチマテリアル化技術・次世代高分子マテリアル/Multi-material technologies / Next-generation high-molecular materials（副 / Sub）-
キーワード / Keywords
シリカガラス,ソーダガラス,アルミノボロシリケートガラス,鉛シリケートガラス,リソグラフィ/Lithography,膜加工・エッチング/Film processing and Etching,蒸着・成膜/Evaporation and Deposition,EB,3D積層技術/ 3D lamination technology
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
加藤 嘉成
所属名 / Affiliation
日本電気硝子株式会社
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
李 佳龍
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
今井憲次
利用形態 / Support Type
（主 / Main）技術代行/Technology Substitution（副 / Sub）-
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
KT-105：両面マスクアライナー
KT-209：磁気中性線放電ドライエッチング装置
KT-110：レジスト現像装置
KT-111：ウエハスピン洗浄装置
KT-203：電子線蒸着装置
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
前課題ではRIEプロセスにより、塑性変形の研究に用いるガラスマイクロピラーの作製を行った 。いくつかの組成で、目標の高さ(4um)に届かなかったので、工程を変更し再度ピラーを作製した。
実験 / Experimental
4種ガラス：シリカガラス(SiO2)、ソーダライムガラス(SLS)、アルミノボロシリケートガラス(ABS)、鉛シリケートガラス(LS)。
ガラスのドライエッチング中のCr膜厚減少を抑えるため、厚膜レジストとCr膜の両方をドライエッチング工程のマスクに使用した。ただし、LSガラスにはレジストマスクのみを使用した（工程トラブルによる）。
Cr膜蒸着⇒レジスト塗布⇒パターン露光⇒レジスト現像⇒Crウェットエッチング⇒ドライエッチング
結果と考察 / Results and Discussion
Fig.1 にSEMによるピラーの外観写真を示す。また、Table 1にSEMによるピラーの形状測定結果を示す。SiO2と同様、SLS、ABSでもほぼ目標の高さのピラーが得られ、LSのピラーは目標よりも高かった。SiO2は垂直なピラーが得られたが、その他のガラスでは側面のテーパーが大きく、段差が見られた。これはCrウェットエッチング時のバックエッチや表面異質層の影響によると考えるが、工程の最適化で改善は可能と考える。 目標の高さが得られたことから、これらのサンプルは圧縮試験に使用可能と考える。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
Fig.1 SEM images of fabricated pillars.
Table 1. Pillar geometry measured by SEM
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件