【公開日：2023.07.28】【最終更新日：2023.05.24】

課題データ / Project Data

課題番号 / Project Issue Number

22TU0120

利用課題名 / Title

微細構造の試作検討

利用した実施機関 / Support Institute

東北大学 / Tohoku Univ.

機関外・機関内の利用 / External or Internal Use

外部利用/External Use

技術領域 / Technology Area

【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）計測・分析/Advanced Characterization（副 / Sub）-

【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed（副 / Sub）-

キーワード / Keywords

デバイス・センサー関連材料, シリコン基材料・デバイス, 光学材料・素子,電子顕微鏡/Electron microscopy,集束イオンビーム/Focused ion beam

利用者と利用形態 / User and Support Type

利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)

杉田 丈也

所属名 / Affiliation

京セラ株式会社 先進技術研究所光学基盤技術ラボ

共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes

ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes

利用形態 / Support Type

（主 / Main）技術代行/Technology Substitution（副 / Sub）-

利用した主な設備 / Equipment Used in This Project

TU-504：超高分解能透過電子顕微鏡
TU-517：透過電子顕微鏡
TU-507：集束イオンビーム加工装置
TU-508：集束イオンビーム加工装置

報告書データ / Report

概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)

特有の機能発現をする微細構造の開発を目的とし、主として東北大学試作コインランドリにて構造の試作を実施中である。作製構造の精緻な解析（寸法、結晶性、元素分析等）により発現機能の裏付けを取る。

実験 / Experimental

作製構造物の表面から集束イオンビーム加工装置にて薄片試料を作製し、TEMを用いて構造物断面の寸法、結晶性、組成分析を行った。

結果と考察 / Results and Discussion

Fig.1にてTEM像を示す。階層構造に作製された試料の断面像となる。理想的な状態では、均質な膜、境界が明瞭な階層構造となるべきであったが、光学顕微鏡や一般的なSEMでは判別が困難な寸法領域において、非常に高い分解能の分析結果より欠陥が多数存在することが確認され、改善点の明確化が図れた。

図・表・数式 / Figures, Tables and Equations

Fig.1

その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)

成果発表・成果利用 / Publication and Patents

論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)

口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.

特許 / Patents

特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件