【公開日：2023.07.28】【最終更新日：2023.05.25】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
22TU0084
利用課題名 / Title
⾦属磁性体における新規電気磁気効果の開拓
利用した実施機関 / Support Institute
東北大学 / Tohoku Univ.
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
内部利用（ARIM事業参画者以外）/Internal Use (by non ARIM members)
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）計測・分析/Advanced Characterization（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed（副 / Sub）量子・電子制御により革新的な機能を発現するマテリアル/Materials using quantum and electronic control to perform innovative functions
キーワード / Keywords
磁性材料,集束イオンビーム/Focused ion beam
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
須藤 健太
所属名 / Affiliation
東北大学 金属材料研究所
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
木俣基
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）-
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
本研究では空間反転対称性を破る結晶・磁気構造を持つ物質群を対象に、集束イオンビーム加工装置(Versa3D）を用いて単結晶の微細加⼯を⾏い、電気伝導測定を⾏う。
実験 / Experimental
集束イオンビーム加工装置を用いてステージに固定した単結晶試料から、結晶軸に注意しながら厚さ100μm、大きさ～101μm×～101μmの薄板を切り出した。一度集束イオンビーム加工装置から薄板を取り出し、基盤にトランスファー後、金薄膜を蒸着し再度集束イオンビーム加工装置へとセットした。金薄膜と試料を希望の素子形状になるまでガリウムイオンビームで削り加工を行った。
結果と考察 / Results and Discussion
集束イオンビーム加工装置で作成したデバイスを図1に示す。本研究では、微細加工を施したジグザグ反強磁性において非相反電気抵抗を測定した。図1のような微細加工デバイスにより、結晶のb及びc軸方向の電気抵抗を同時に測定することができる。測定の結果、ゼロ磁場にもかかわらず非相反電気抵抗が生じることを見出した。これはジグザグ鎖上のスピンが反強磁性秩序することによる空間反転対称性と時間反転対称性の破れから説明できると考えた。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
図1. 非相反電気抵抗測定用デバイスの完成品
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件