【公開日：2023.08.01】【最終更新日：2023.05.08】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
22NI0805
利用課題名 / Title
錯体の観察
利用した実施機関 / Support Institute
名古屋工業大学
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
内部利用（ARIM事業参画者以外）/Internal Use (by non ARIM members)
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）計測・分析/Advanced Characterization（副 / Sub）物質・材料合成プロセス/Molecule & Material Synthesis
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed（副 / Sub）マテリアルの高度循環のための技術/Advanced materials recycling technologies
キーワード / Keywords
Rh(III)錯体,NHC配位子,X線回折/X-ray diffraction,資源使用量低減技術/ Technologies for reducing resource usage
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
財津 将己
所属名 / Affiliation
名古屋工業大学
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）-
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
そこで本研究では、様々な反応で高い触媒活性が報告されているRhを中心金属に選択し、配位子末端にp-置換アリール基を導入した二座ビスNHC Rh(III)錯体の合成を行った。得られた錯体の触媒能を移動水素化反応によって検討し、先行研究のトリスNHC錯体とピリジン置換錯体比較することで反応サイトの数や立体効果による違いが触媒活性に与える影響を明らかにした。
実験 / Experimental
錯体合成耐圧チューブにAN 6.00 mL、[Rh(cod)l]2 96.4 mg (0.141 mmol)、配位子前駆体140 mg (0.257 mmol) , KI 167 mg (0.100 mmol)、トリエチルアミン 240 μl (1.72 mmol) を加え、50℃で30分撹拌した。その後吸引濾過し濾液をエバポレーターで溶媒除去した。得られた固体を水で洗浄し、真空乾燥した。AN、ジエチルエーテルから再結晶することにより良好な単結晶が得られたので固体をX線構造解析を行った。
結果と考察 / Results and Discussion
X線構造解析により、錯体は図に示すように支持配位子、アセトニトリル２分子、2個のヨウ化物イオンが配位した六配位八面体型構造であり、アセトニトリルはお互いにシス位に、ヨウ化物イオンはお互いにトランス位に配位していることが明らかになった。また、ヨウ化物イオンが対イオンであり、既知の類似錯体と同様の構造1)でであった。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
図１
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
1) Chin Hin Leung, Organometallics, 2006, 25, 6099-6107
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件