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- 22AT0381
- 高分子ゲルの表面観察
- 2023.7.28
- 産業技術総合研究所
- 22AT0380
- YBCO薄膜のコプレーナライン形状へのイオンビームエッチング
- 2023.7.28
- 産業技術総合研究所
- 22AT0378
- EB描画を使用したグレイスケール露光法の技術開発
- 2023.7.28
- 産業技術総合研究所
- 22AT0375
- ダイヤモンド半導体パワーデバイスの開発
- 2023.7.28
- 産業技術総合研究所
- 22AT0374
- 光電コパッケージ用電気配線試作
- 2023.7.28
- 産業技術総合研究所
- 22AT0373
- 酸化物薄膜から基板へのNb元素の拡散層の評価
- 2023.7.28
- 産業技術総合研究所
- 22AT0369
- 2次元材料成膜用高誘電体絶縁膜被覆Si基板の作製
- 2023.7.28
- 産業技術総合研究所
- 22AT0364
- 温泉水中での結晶反応速度
- 2023.7.28
- 産業技術総合研究所
- 22AT0361
- 反応性スパッタによる 窒化シリコン膜の形成
- 2023.7.28
- 産業技術総合研究所
- 22AT0359
- Ta2O5の熱刺激電流測定
- 2023.7.28
- 産業技術総合研究所