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- 22AT0373
- 酸化物薄膜から基板へのNb元素の拡散層の評価
- 2023.7.28
- 産業技術総合研究所
- 22AT0369
- 2次元材料成膜用高誘電体絶縁膜被覆Si基板の作製
- 2023.7.28
- 産業技術総合研究所
- 22AT0364
- 温泉水中での結晶反応速度
- 2023.7.28
- 産業技術総合研究所
- 22AT0361
- 反応性スパッタによる 窒化シリコン膜の形成
- 2023.7.28
- 産業技術総合研究所
- 22AT0359
- Ta2O5の熱刺激電流測定
- 2023.7.28
- 産業技術総合研究所
- 22AT0346
- ALD成膜による極薄積層膜の膜特性及び界面評価
- 2023.7.28
- 産業技術総合研究所
- 22AT0344
- KFM測定を利用した金属ナノシートガスセンサ内の温度計測
- 2023.7.28
- 産業技術総合研究所
- 22AT0340
- ポリマー導波路の端面の平滑性の向上
- 2023.7.28
- 産業技術総合研究所
- 22AT0330
- Si陽極酸化用ハードマスク作成プロセスの検討
- 2023.7.28
- 産業技術総合研究所
- 22AT0319
- ALD-SiO2のプロセス評価
- 2023.7.28
- 産業技術総合研究所