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- 23AT0079
- ミニマルアルミスパッタ装置で形成したAl膜の評価
- 2024.7.25
- 産業技術総合研究所
- 23AT0080
- SiO2膜によるhp 50nm L/Sパターン作成評価
- 2024.7.25
- 産業技術総合研究所
- 23AT0081
- 層間絶縁膜としてのPMMAネガレジストの検討
- 2024.7.25
- 産業技術総合研究所
- 23AT0082
- Ge (111)のドライエッチング
- 2024.7.25
- 産業技術総合研究所
- 23AT0086
- トランスファープリンティングによる光回路集積
- 2024.7.25
- 産業技術総合研究所
- 23AT0088
- Investigation of microstructure, composition and passivation performance of silicon nitride, silicon oxide, and titanium nitride thin films
- 2024.7.25
- 産業技術総合研究所
- 23AT0089
- UVオゾン照射によるパリレンエッチング最適化
- 2024.7.25
- 産業技術総合研究所
- 23AT0091
- スピントロニクスデバイスの作製
- 2024.7.25
- 産業技術総合研究所
- 23AT0092
- 半導体プロセス用材料の性能評価およびプロセス検討
- 2024.7.25
- 産業技術総合研究所
- 23AT0093
- 超格子薄膜の微細加工
- 2024.7.25
- 産業技術総合研究所