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23AT0002
高純度オゾンを用いたHfO2膜の段差被覆性
2024.7.25
産業技術総合研究所
23AT0014
金属ナノ材料に関する研究
2024.7.25
産業技術総合研究所
23AT0016
3次元LSIの試作・評価
2024.7.25
産業技術総合研究所
23AT0018
Nb Sputter装置での表面粗さを抑える方法Nb Sputterを行うときの表面粗さを抑える条件
2024.7.25
産業技術総合研究所
23AT0020
微生物分析用マイクロチップの開発
2024.7.25
産業技術総合研究所
23AT0023
電子ビームリソグラフィーの3次元レジスト形状シミュレーション技術に関する研究
2024.7.25
産業技術総合研究所
23AT0024
LN基板上に成膜した透明導電膜の熱処理による影響
2024.7.25
産業技術総合研究所
23AT0025
低温異種材料接合技術の開発
2024.7.25
産業技術総合研究所
23AT0027
スパッタエッチング検討
2024.7.25
産業技術総合研究所
23AT0029
MoS2上ALD ZrO2ゲート絶縁膜の研究(Research of ALD ZrO2 gate dielectric on MoS2
2024.7.25
産業技術総合研究所
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