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- 23IT0031
- 電子ビーム露光装置を用いたIII-N半導体微細構造の形成
- 2024.7.25
- 東京工業大学
- 23IT0032
- 単一フォトン源の作製
- 2024.7.25
- 東京工業大学
- 23IT0033
- フォトニック・リザバーの作製
- 2024.7.25
- 東京工業大学
- 23IT0034
- SEM装置によるナノデバイスの観察
- 2024.7.25
- 東京工業大学
- 23IT0035
- シリコンフォトニクスウェハの光学特性評価
- 2024.7.25
- 東京工業大学
- 23IT0037
- 小径基板もしくは小片への成膜、加工、測定
- 2024.7.25
- 東京工業大学
- 23IT0038
- 非対称プラズモニック結晶導波路
- 2024.7.25
- 東京工業大学
- 23IT0040
- 二硫化カルコゲン半導体薄膜場へのアモルファスシリコンのプラズマ化学気相成長
- 2024.7.25
- 東京工業大学
- 23IT0041
- 無アルカリガラス基板および合成石英基板へのALD-Al2O3成膜
- 2024.7.25
- 東京工業大学
- 23IT0042
- SOI基板上リブ導波路製作
- 2024.7.25
- 東京工業大学