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23IT0031
電子ビーム露光装置を用いたIII-N半導体微細構造の形成
2024.7.25
東京工業大学
23IT0032
単一フォトン源の作製
2024.7.25
東京工業大学
23IT0033
フォトニック・リザバーの作製
2024.7.25
東京工業大学
23IT0034
SEM装置によるナノデバイスの観察
2024.7.25
東京工業大学
23IT0035
シリコンフォトニクスウェハの光学特性評価
2024.7.25
東京工業大学
23IT0037
小径基板もしくは小片への成膜、加工、測定
2024.7.25
東京工業大学
23IT0038
非対称プラズモニック結晶導波路
2024.7.25
東京工業大学
23IT0040
二硫化カルコゲン半導体薄膜場へのアモルファスシリコンのプラズマ化学気相成長
2024.7.25
東京工業大学
23IT0041
無アルカリガラス基板および合成石英基板へのALD-Al2O3成膜
2024.7.25
東京工業大学
23IT0042
SOI基板上リブ導波路製作
2024.7.25
東京工業大学
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