文部科学省マテリアル先端リサーチインフラは、文部科学省ナノテクノロジープラットフォーム事業から継続して昨年度までの約33,000件の利用課題の中からイノベーションに繋がることが期待できるなど特に秀逸な成果を選定、令和6年度「秀でた利用成果」 6件を決定しました。
1.「秀でた利用成果」の概要
マテリアル先端リサーチインフラは、文部科学省の委託により、ナノテクノロジープラットフォームで培った、全国的な最先端共用設備体制と高度な技術支援提供体制に加え、リモート化・自動化・ハイスループット化された先端設備を導入し、設備共用を継続すると共に、共用に伴って創出されるマテリアルデータを、利活用しやすい構造化された形で、収集・蓄積を行っています。
毎年約3000件、昨年度までの11年間で約33,000件の利用がありますが、今回25の実施機関から優れた利用成果として提出された59件の候補から、曽根純一プログラムディレクターを主査とする11名からなる選定委員会の審査により、6件の「秀でた利用成果」を選出しました。
選定にあたっては、①ナノテクノロジープラットフォーム/マテリアル先端リサーチインフラの活用・支援が大きな効果をもたらしたもの、②イノベーションの創出にあたって大きな影響が期待できるもの、③産業界・大学・公的機関の連携により大きな成果が得られたもの、という3つの基準を設けて厳正に審査しました。
2. 令和5年度「秀でた利用成果」最優秀賞受賞課題
令和7年1月29日（水）、東京ビッグサイトで開催される秀でた利用成果発表会の発表を通して最優秀賞の選考を行い、決定いたします。
3. 令和5年度「秀でた利用成果」優秀賞受賞課題
・東京大学＆東北大学
「電子線描画装置を使用した1GHz OPAW振動子の電極パターニング」
・東京大学
「量子センシングのためのマイクロ波アンテナ作製」
「量子センシングのためのマイクロ波アンテナ作製」
・筑波大学
「窒化アルミニウム(AlN)を用いた高温デバイスの作製」
「窒化アルミニウム(AlN)を用いた高温デバイスの作製」
・北陸先端科学技術大学院大学
「真空紫外線処理を施した高分子樹脂と無電解めっき膜密着性向上メカニズム解明のための密着界面評価」
「真空紫外線処理を施した高分子樹脂と無電解めっき膜密着性向上メカニズム解明のための密着界面評価」
・自然科学研究機構分子科学研究所
「分子性量子ビットの開発」
・大阪大学
「ATP動態を担う蛋白質の構造解析」
令和6年度「秀でた利用成果」最優秀賞、優秀賞の表彰式は、令和7年1月29日（水）、令和6年度秀でた利用成果・技術スタッフ表彰式（会場：東京ビッグサイト 会議棟1階 102会議室）にて行われます。詳細は、後日ご案内いたします。
【お問い合わせ】
国立研究開発法人 物質・材料研究機構
マテリアル先端リサーチインフラセンターハブ運営室内
秀でた利用成果事務局
E-mail: arim-outstanding(at)nims.go.jp
※(at)を@に書き換えてください。