位相変調型分光エリプソメーター
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最終更新日：2024年8月29日
| 設備ID | OS-124 |
|---|---|
| 分類 |
膜厚・粒度測定 > エリプソメーター 膜厚・粒度測定 > 膜厚測定 |
| 設備名称 | 位相変調型分光エリプソメーター (Spectroscopic Ellipsometer) |
| 設置機関 | 大阪大学 |
| 設置場所 | 産業科学研究所S315 |
| メーカー名 | 株式会社堀場製作所 (HORIBA, Ltd.) |
| 型番 | UVISEL LT NIR-NNG |
| キーワード | 位相変調型 |
| 仕様・特徴 | 【特徴】 紫外～近赤外域まで測定可能な高精度分光エリプソメーターです。 測定データーと分散式をフィッティングすることで膜厚や光学定数を得ることができます。 【仕様】 照射領域：2×6mm 測定波長範囲：260～2100nm 光源：Xeランプ |
| 設備状況 | 共用を終了した設備です |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=OS-124 |
