ナノ粒子解析装置（ゼーターサイザー）
最終更新日：2023年4月18日
| 設備ID | OS-123 |
|---|---|
| 分類 |
膜厚・粒度測定 > 粒度分布測定（動的光散乱） 膜厚・粒度測定 > ゼータ電位 膜厚・粒度測定 > 粒度分布測定（静的光散乱） |
| 設備名称 | ナノ粒子解析装置（ゼーターサイザー） (Zetasizer) |
| 設置機関 | 大阪大学 |
| 設置場所 | 産業科学研究所S315 |
| メーカー名 | シスメックス株式会社（マルバーン） (SYSMEX CORPORATION (Malvern)) |
| 型番 | NANO-ZS |
| キーワード | 動的光散乱 |
| 仕様・特徴 | 【特徴】 動的散乱光法により溶液中に分散された粒子の粒子径や、ゼータ電位測定が可能な装置です。 低濃度または高濃度サンプルにも対応可能です。 （濃度0.1ppm～40%/Wでの測定が可能） 【仕様】 必要試料量：70μL 粒子径測定：0.6nm～6μm（動的光散乱法） ゼータ電位測定：3nm～10μm |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=OS-123 |
