薄膜X線回折装置
最終更新日：2022年4月9日
| 設備ID | OS-120 |
|---|---|
| 分類 | 回折・散乱 > X線回折 |
| 設備名称 | 薄膜X線回折装置 (X-Ray Diffraction System) |
| 設置機関 | 大阪大学 |
| 設置場所 | 産業科学研究所S315 |
| メーカー名 | 株式会社リガク (Rigaku Corporation) |
| 型番 | Ultima IV |
| キーワード | in-plane測定、薄膜 |
| 仕様・特徴 | 【特徴】 粉末試料、薄膜試料が測定可能な水平試料型X線回折装置です。 薄膜インプレーンスキャンによる面内構造解析が可能です。 試料交換、スリット等の交換も容易にできます。 【仕様】 定格出力：1.6kW(40kV,40mA) 試料ステージサイズ：10cmφ 2θ/θ、インプレーン測定が可能 |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=OS-120 |
