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薄膜X線回折装置

設備ID OS-120
分類 回折・散乱 > X線回折
装置名称 薄膜X線回折装置 (X-Ray Diffraction System)
設置機関 大阪大学
設置場所 産業科学研究所S315
メーカー名 株式会社リガク (Rigaku Corporation)
型番 Ultima IV
キーワード in-plane測定、薄膜
仕様・特徴 【特徴】
粉末試料、薄膜試料が測定可能な水平試料型X線回折装置です。
薄膜インプレーンスキャンによる面内構造解析が可能です。
試料交換、スリット等の交換も容易にできます。
【仕様】
定格出力:1.6kW(40kV,40mA)
試料ステージサイズ:10cmφ 2θ/θ、インプレーン測定が可能
    薄膜X線回折装置
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