ナノインプリント装置
最終更新日：2023年4月25日
| 設備ID | OS-108 |
|---|---|
| 分類 | リソグラフィ > ナノインプリント |
| 設備名称 | ナノインプリント装置 (Nanoimprint system) |
| 設置機関 | 大阪大学 |
| 設置場所 | 産業科学研究所N415 |
| メーカー名 | オブデュキャット (Obducat) |
| 型番 | Eitre 3 |
| キーワード | 微細加工装置 ナノインプリント |
| 仕様・特徴 | 【特徴】 UV（波長 365, 405, 436nm）と熱（室温～200℃）を使って、最大3インチの微細パターンを転写可能。エア加圧（最大50bar)なので基板全面に均一に転写でき、異物によるモールドの破損が少ない。鋳型準備が必要だが同じパターンを複数作製したいユーザーに最適。 【仕様】 熱･UVの両方式に対応 試料サイズ：3 inch |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=OS-108 |
