LED描画システム
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最終更新日：2024年8月29日
| 設備ID | OS-106 |
|---|---|
| 分類 | リソグラフィ > 光露光（マスクレス、直接描画） |
| 設備名称 | LED描画システム (LED lithography system) |
| 設置機関 | 大阪大学 |
| 設置場所 | 産業科学研究所S313 |
| メーカー名 | ピーエムティー (PMT) |
| 型番 | PLS-1010 |
| キーワード | マイクロ加工 大面積描画 |
| 仕様・特徴 | 【特徴】 最高輝度のLEDとDMD（デジタルミラーデバイス）によりパターン生成する最小描画線幅0.54μmの光描画装置。大型レーザーステージを装備し、4インチ全域を約1時間で描画(OFPR-5000レジストの場合）。 【仕様】 DLPを使用したマスクレス描画装置 描画方式：ステップ＆スキャン方式 画分解能：0.54μm 接合精度：±0.5μm以下、 重ね合わせ精度：±1μm以下 |
| 設備状況 | 共用を終了した設備です |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=OS-106 |
