高速大面積電子ビームリソグラフィー装置
最終更新日：2023年4月18日
| 設備ID | OS-105 |
|---|---|
| 分類 | リソグラフィ > 電子線描画（EB） |
| 設備名称 | 高速大面積電子ビームリソグラフィー装置 (High speed and large area electron beam lithography system) |
| 設置機関 | 大阪大学 |
| 設置場所 | 産業科学研究所N415 |
| メーカー名 | エリオニクス (ELIONIX) |
| 型番 | ELS-S50LBC |
| キーワード | 50kV加速 最速スキャンレート：100MHz 大電流照射仕様 大構造，大面積描画に特化 |
| 仕様・特徴 | 【特徴】 加速電圧50kVで1µAのビーム電流が得られる。最高クロック周波数100MHzの高速ビーム変更システムを搭載し、大面積を高スループットで描画することに特化。 【仕様】 電子銃：ZrO/W熱電界放出型（TFE） 描画方式：ベクタースキャン方式 加速電圧：20, 30, 50kV ビーム電流：100pA～1µA 描画フィールド：100µm□～3000µm□ 試料サイズ：10～25mm□、3インチ□、4インチ・6インチφウエハ |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=OS-105 |
