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自動搬送電子ビーム描画装置

設備ID OS-104
分類 リソグラフィ > 電子線描画(EB)
装置名称 自動搬送電子ビーム描画装置 (Automatic Transport Electron Beam Lithography System)
設置機関 大阪大学
設置場所 産業科学研究所N416
メーカー名 エリオニクス (ELIONIX)
型番 ELS-BODEN-OU4801
キーワード 150kV加速
最速スキャンレート:200MHz
オートローダー仕様
微細構造描画に特化
反射電子検出器
仕様・特徴 【特徴】
ZnO/W熱電解放射型電子銃の採用により、最小ビーム径1.5nmφの極細線用ビームを長時間安定して使用することができます。また最高150kVの加速電圧を採用し、最小線幅4nmの描画が可能です。
【仕様】
加速電圧:150kV
最小電子ビーム径:φ1.5nm
最小描画線幅:4nm
ビーム電流可変域:5pA-100nA
描画フィールドサイズ:□100μm、□250μm、□500μm
    自動搬送電子ビーム描画装置
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