自動搬送電子ビーム描画装置
最終更新日：2023年4月18日
| 設備ID | OS-104 |
|---|---|
| 分類 | リソグラフィ > 電子線描画（EB） |
| 設備名称 | 自動搬送電子ビーム描画装置 (Automatic Transport Electron Beam Lithography System) |
| 設置機関 | 大阪大学 |
| 設置場所 | 産業科学研究所N416 |
| メーカー名 | エリオニクス (ELIONIX) |
| 型番 | ELS-BODEN-OU4801 |
| キーワード | 150kV加速 最速スキャンレート：200MHz オートローダー仕様 微細構造描画に特化 反射電子検出器 |
| 仕様・特徴 | 【特徴】 ZnO/W熱電解放射型電子銃の採用により、最小ビーム径1.5nmφの極細線用ビームを長時間安定して使用することができます。また最高150kVの加速電圧を採用し、最小線幅4nmの描画が可能です。 【仕様】 加速電圧：150kV 最小電子ビーム径：φ1.5nm 最小描画線幅：4nm ビーム電流可変域：5pA-100nA 描画フィールドサイズ：□100μm、□250μm、□500μm |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=OS-104 |
