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SEM付集束イオンビーム装置

最終更新日:2023年4月18日
設備ID OS-102
分類 微小加工装置 > 集束イオンビーム(FIB)
走査型顕微鏡 > 走査型電子顕微鏡
設備名称 SEM付集束イオンビーム装置 (Focused ion beam system with SEM)
設置機関 大阪大学
設置場所 産業科学研究所N415
メーカー名 カールツァイス (Carl Zeiss)
型番 Nvision 40D with NPVE
キーワード SEM-FIBダブルビーム
構造断面解析
GeminiSEM
GIS
仕様・特徴 【特徴】
30kVのGa+イオンによるFIB加工及び加工時のSEM観察が可能。FIBによる気相蒸着によりPtおよびSiO2による配線の修復が可能。
【仕様】
ステージサイズ:max 8 inch
Pt銃、SiO2銃装備
FE-SEMユニット, 加速電圧:30kV
検出器:InLens, SE, Esb
FIBユニット, 加速電圧:30kV
最小ビーム径:4nm
設備状況 稼働中
本設備の利用事例 https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=OS-102
    SEM付集束イオンビーム装置
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