SEM付集束イオンビーム装置
最終更新日:2023年4月18日
設備ID | OS-102 |
---|---|
分類 |
微小加工装置 > 集束イオンビーム(FIB) 走査型顕微鏡 > 走査型電子顕微鏡 |
設備名称 | SEM付集束イオンビーム装置 (Focused ion beam system with SEM) |
設置機関 | 大阪大学 |
設置場所 | 産業科学研究所N415 |
メーカー名 | カールツァイス (Carl Zeiss) |
型番 | Nvision 40D with NPVE |
キーワード | SEM-FIBダブルビーム 構造断面解析 GeminiSEM GIS |
仕様・特徴 | 【特徴】 30kVのGa+イオンによるFIB加工及び加工時のSEM観察が可能。FIBによる気相蒸着によりPtおよびSiO2による配線の修復が可能。 【仕様】 ステージサイズ:max 8 inch Pt銃、SiO2銃装備 FE-SEMユニット, 加速電圧:30kV 検出器:InLens, SE, Esb FIBユニット, 加速電圧:30kV 最小ビーム径:4nm |
設備状況 | 稼働中 |
本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=OS-102 |