高精細集束イオンビーム装置
最終更新日：2023年4月18日
| 設備ID | OS-101 |
|---|---|
| 分類 | 微小加工装置 > 集束イオンビーム（FIB） |
| 設備名称 | 高精細集束イオンビーム装置 (High definition focused ion beam system) |
| 設置機関 | 大阪大学 |
| 設置場所 | 産業科学研究所F193 |
| メーカー名 | カールツァイス (Carl Zeiss) |
| 型番 | ORION NanoFab |
| キーワード | HIM Heイオン Neイオン 生体試料 ステージバイアス 電子中和銃 GIS |
| 仕様・特徴 | 【特徴】 イオン源にHeガスを採用し、最小ビーム径0.5nmφ の分解能を有する。 FIB：10nm以下の微細加工が可能。 ヘリウムイオン顕微鏡：中和銃装備のため導電性処理無しで絶縁体の観察が可能。生体試料の観察にも適する。 【仕様】 イオン源：He / Ne (希ガス) 最小ビーム径：0.5 nm (He)，1.9 nm (Ne) 加速電圧：10～40 kV ET検出器：2次電子 電子中和銃（Flood gun）装備 GIS：Pt、SiO2、XeF2 試料サイズ： 45mmφ |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=OS-101 |
