電子ビーム描画装置
最終更新日：2024年4月9日
| 設備ID | MS-103 |
|---|---|
| 分類 | リソグラフィ > 電子線描画（EB） |
| 設備名称 | 電子ビーム描画装置 (Electron Beam Lithgraphy System) |
| 設置機関 | 自然科学研究機構 分子科学研究所 |
| 設置場所 | 分子研 明大寺地区 |
| メーカー名 | エリオニクス (Elionix Inc.) |
| 型番 | ELS-G100 |
| キーワード | 電子線描画 |
| 仕様・特徴 | 最大加速電圧100kV, 最小ビーム径1.8nm, 最小描画線幅6nm |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=MS-103 |
