リン酸槽
最終更新日：2022年4月9日
| 設備ID | TU-003 |
|---|---|
| 分類 |
膜加工・エッチング > ウェットエッチング 表面処理・洗浄 > ウェット処理 |
| 設備名称 | リン酸槽 (Draft chamber for SiN etching) |
| 設置機関 | 東北大学 |
| 設置場所 | 東北大学西澤潤一記念研究センター 2Fクリーンルーム |
| メーカー名 | - (-) |
| 型番 | - |
| キーワード | SiNウェットエッチング |
| 仕様・特徴 | サンプルサイズ：小片～8インチ |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=TU-003 |
