Deep Reactive Ion Etching装置(Boschプロセス)
設備ID | TT-011 |
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分類 | 膜加工・エッチング > プラズマエッチング |
装置名称 | Deep Reactive Ion Etching装置(Boschプロセス) (Reactive ion etching equipment (Bosch)) |
設置機関 | 豊田工業大学 |
設置場所 | クリーンルーム |
メーカー名 | 住友精密工業 (Sumitomo Precision Products CO.,LTD.) |
型番 | Multiplex-ASE-SRE-SE |
キーワード | プラズマエッチング。壁面の凹凸が約40nmとなる低スキャロップで主に運用。保護膜のCxFy膜はnmレベルで膜厚制御。 |
仕様・特徴 | ・φ4インチ シリコン用(金属剥き出しサンプルは禁止) メカニカルクランプのため、200μm厚のような薄いウェハは割れるため、厚いウェハに固定して運用。 |