シリコン専用の各種熱処理（酸化、拡散）装置一式
最終更新日：2022年4月9日
| 設備ID | TT-009 |
|---|---|
| 分類 | 熱処理・ドーピング > 酸化 |
| 設備名称 | シリコン専用の各種熱処理（酸化、拡散）装置一式 (Thermal treatment furnaces (oxidation, diffusion)) |
| 設置機関 | 豊田工業大学 |
| 設置場所 | クリーンルーム |
| メーカー名 | 縦型：ディー・エス・アイ テクノロジー 横型：光洋サーモシステム (縦型：DSITechnology Co.LTD 横型：Koyo Thermo Systems Co., Ltd.) |
| 型番 | 縦型：MD-100P 横型：4001PSI |
| キーワード | シリコンウェハの酸化および不純物拡散に利用。Deep RIEで入る壁面凹凸のスキャロップを除去することにも利用。 |
| 仕様・特徴 | 横型および縦型酸化・拡散炉一式 ・シリコンウェハの酸化および不純物拡散（リンおよびボロン） ・φ3インチまでのシリコン基板 |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=TT-009 |
