マスクアライナ装置
最終更新日：2024年4月8日
| 設備ID | TT-006 |
|---|---|
| 分類 | リソグラフィ > 光露光（マスクアライナ） |
| 設備名称 | マスクアライナ装置 (Mask aligner) |
| 設置機関 | 豊田工業大学 |
| 設置場所 | クリーンルーム |
| メーカー名 | ズース・マイクロテック (SUSS MicroTec) |
| 型番 | MA6 |
| キーワード | 光露光（マスクアライナ）。小片基板から4インチウェハのパターニングに利用。 |
| 仕様・特徴 | ・裏面アライメント可能、i線フィルタ付き ・付帯装置：レジストのスピンコータ共和理研Ｋ-359ＳＤなど |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=TT-006 |
