マスクレス露光装置
最終更新日：2024年4月8日
| 設備ID | TT-005 |
|---|---|
| 分類 | リソグラフィ > 光露光（マスクレス、直接描画） |
| 設備名称 | マスクレス露光装置 (Maskless exposure equipment) |
| 設置機関 | 豊田工業大学 |
| 設置場所 | クリーンルーム |
| メーカー名 | 大日本科研 (Japan Science Engineering Co., Ltd.) |
| 型番 | MX-1204 |
| キーワード | 光露光（マスクレス、直接描画）。運用としてdxf形式CADファイルを変換して直描。4インチクロムマスクの製作可能。 |
| 仕様・特徴 | φ4インチにポジ型フォトレジスト（膜厚1μm以上）に、2μm幅のラインアンドスペースを全面（外周3mm除く）に描いたときに、描画時間が30分程度。 露光パターン幅のバラツキが100 nm（1σ）以下。 |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=TT-005 |
