電子ビーム描画装置
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最終更新日：2024年8月29日
| 設備ID | TT-004 |
|---|---|
| 分類 | リソグラフィ > 電子線描画（EB） |
| 設備名称 | 電子ビーム描画装置 (Electron beam drawing equipment) |
| 設置機関 | 豊田工業大学 |
| 設置場所 | クリーンルーム |
| メーカー名 | クレステック (Crestec) |
| 型番 | CABL-8200TFE |
| キーワード | 最大500μm角領域に400nmサイズの〇や△を描画 |
| 仕様・特徴 | Siやガラスなどの各種基板に描画実績あり。 ガラスに対しては帯電対策が必要。 |
| 設備状況 | 共用を終了した設備です |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=TT-004 |
