多機能薄膜作製装置
最終更新日：2024年4月8日
| 設備ID | TT-002 |
|---|---|
| 分類 | 成膜装置 > スパッタリング（スパッタ） |
| 設備名称 | 多機能薄膜作製装置 (Sputtering vapor depositing / Molecular vapor epitaxy equipment) |
| 設置機関 | 豊田工業大学 |
| 設置場所 | 通常実験室 |
| メーカー名 | アルバック (ULVAC) |
| 型番 | BC2925（特注装置） |
| キーワード | スパッタリング（スパッタ）。スパッタ（磁性材料）蒸着および分子線エピタキシー複合装置 |
| 仕様・特徴 | 超高真空仕様 RF2元、DC2元 ターゲット2インチΦと、分子線エピタキシーMBE3元（EBガン）の複合利用可能 多層膜作成可能、主に磁性材料用 |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=TT-002 |
