スパッタ（金属、絶縁体）蒸着装置
最終更新日：2024年4月8日
| 設備ID | TT-001 |
|---|---|
| 分類 | 成膜装置 > スパッタリング（スパッタ） |
| 設備名称 | スパッタ（金属、絶縁体）蒸着装置 (Sputtering vapor depositing equipment) |
| 設置機関 | 豊田工業大学 |
| 設置場所 | クリーンルーム |
| メーカー名 | 芝浦エレテック (Shibaura eletec Corporatoin) |
| 型番 | CFS-4ES |
| キーワード | スパッタリング（スパッタ）。平行平板型、ターゲット現有（Ti, Al, Ag, Ni, Pd, SiO2, Al2O3, SiN, Au） |
| 仕様・特徴 | ・平行平板型 ・ターゲット現有（Ti, Al, Ag, Pd, SiO2, Al2O3, SiN, Au） |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=TT-001 |
