スパッタ(金属、絶縁体)蒸着装置
設備ID | TT-001 |
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分類 | 成膜装置 > スパッタリング(スパッタ) |
装置名称 | スパッタ(金属、絶縁体)蒸着装置 (Sputtering vapor depositing equipment) |
設置機関 | 豊田工業大学 |
設置場所 | クリーンルーム |
メーカー名 | 芝浦エレテック (Shibaura eletec Corporatoin) |
型番 | CFS-4ES |
キーワード | スパッタリング(スパッタ)。平行平板型、ターゲット現有(Ti, Al, Ag, Ni, Pd, SiO2, Al2O3, SiN, Au) |
仕様・特徴 | ・平行平板型 ・ターゲット現有(Ti, Al, Ag, Pd, SiO2, Al2O3, SiN, Au) |