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中規模カーボンナノファイバー室温合成装置

最終更新日:2024年4月8日
設備ID NI-104
分類 成膜装置 > スパッタリング(スパッタ)
合成設備 > その他
膜加工・エッチング > その他
設備名称 中規模カーボンナノファイバー室温合成装置 (Room-Temperature Carbon Nanofiber Growth System (for Medium Sized Samples))
設置機関 名古屋工業大学
設置場所 名古屋工業大学御器所キャンパス
メーカー名 自作 (Home-made)
型番 自作
キーワード カーボンナノファイバー(CNF)室温合成、ナノ突起群の室温合成、炭素系複合材料の合成
スパッタリング(スパッタ)/ Sputtering
仕様・特徴 カーボンナノファイバー(CNF)室温合成速度:10 nm/min程度以上。
試料サイズ:1インチ角程度以下。
設備状況 稼働中
本設備の利用事例 https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=NI-104
    中規模カーボンナノファイバー室温合成装置
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