中規模カーボンナノファイバー室温合成装置
最終更新日:2024年4月8日
設備ID | NI-104 |
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分類 |
成膜装置 > スパッタリング(スパッタ) 合成設備 > その他 膜加工・エッチング > その他 |
設備名称 | 中規模カーボンナノファイバー室温合成装置 (Room-Temperature Carbon Nanofiber Growth System (for Medium Sized Samples)) |
設置機関 | 名古屋工業大学 |
設置場所 | 名古屋工業大学御器所キャンパス |
メーカー名 | 自作 (Home-made) |
型番 | 自作 |
キーワード | カーボンナノファイバー(CNF)室温合成、ナノ突起群の室温合成、炭素系複合材料の合成 スパッタリング(スパッタ)/ Sputtering |
仕様・特徴 | カーボンナノファイバー(CNF)室温合成速度:10 nm/min程度以上。 試料サイズ:1インチ角程度以下。 |
設備状況 | 稼働中 |
本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=NI-104 |