真空蒸着装置群
最終更新日：2024年4月8日
| 設備ID | NI-103 |
|---|---|
| 分類 | 成膜装置 > 蒸着(抵抗加熱、電子線) |
| 設備名称 | 真空蒸着装置群 (Vacuum Deposition Equipment) |
| 設置機関 | 名古屋工業大学 |
| 設置場所 | 名古屋工業大学御器所キャンパス |
| メーカー名 | シンク/MBRAUN (Sinku of Technology Co., Ltd./MBRAUN) |
| 型番 | JIS-300AK/DBO-1KP-0 |
| キーワード | 金属基板作製 蒸着（抵抗加熱、電子線）/ Evaporation (resistance heating and electron beam) |
| 仕様・特徴 | ●真空蒸着装置（JIS-300AK） マイカ基板サイズ：15×15mm（標準） マイカ厚み：0.1～0.15mm 金膜厚：100〜150nm ●グローブボックス（DBO-1KP-0） Ar下における少量のサンプル調整（合成）が可能、電子天秤あり |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=NI-103 |
