プラズマ・ガス凝縮クラスター堆積装置
最終更新日：2024年4月8日
| 設備ID | NI-101 |
|---|---|
| 分類 | 成膜装置 > その他 |
| 設備名称 | プラズマ・ガス凝縮クラスター堆積装置 (Plasma-Gas-Condensation Cluster Deposition Apparatus) |
| 設置機関 | 名古屋工業大学 |
| 設置場所 | 名古屋工業大学御器所キャンパス |
| メーカー名 | 日本ビーテック (Vieetech Japan) |
| 型番 | 特型 |
| キーワード | ナノ粒子、触媒、磁性体、薄膜 スパッタリング（スパッタ）/ Sputtering |
| 仕様・特徴 | クラスターサイズ 直径3～15nm 直流マグネトロンスパッタリング方式 スパッタ電力 最大500W 基板サイズ 最大2cmX2cm |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=NI-101 |
