エッチングチャンバー
最終更新日:2022年6月6日
設備ID | TU-001 |
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分類 |
表面処理・洗浄 > ウェット処理 膜加工・エッチング > ウェットエッチング |
設備名称 | エッチングチャンバー (Draft chamber) |
設置機関 | 東北大学 |
設置場所 | 東北大学西澤潤一記念研究センター 2Fクリーンルーム |
メーカー名 | アズワン (As one) |
型番 | PSH1200 |
キーワード | 酸洗浄、ウェットエッチング(Si, SiO2, 金属など) |
仕様・特徴 | サンプルサイズ:小片~8インチ |
設備状況 | 稼働中 |
本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=TU-001 |