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エッチングチャンバー

最終更新日:2022年6月6日
設備ID TU-001
分類 表面処理・洗浄 > ウェット処理
膜加工・エッチング > ウェットエッチング
設備名称 エッチングチャンバー (Draft chamber)
設置機関 東北大学
設置場所 東北大学西澤潤一記念研究センター 2Fクリーンルーム
メーカー名 アズワン (As one)
型番 PSH1200
キーワード 酸洗浄、ウェットエッチング(Si, SiO2, 金属など)
仕様・特徴 サンプルサイズ:小片~8インチ
設備状況 稼働中
本設備の利用事例 https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=TU-001
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