クリーンルーム微細加工装置群
最終更新日：2024年3月7日
| 設備ID | JI-017 |
|---|---|
| 分類 |
リソグラフィ > 光露光（マスクレス、直接描画） 膜加工・エッチング > プラズマエッチング 成膜装置 > スパッタリング（スパッタ） |
| 設備名称 | クリーンルーム微細加工装置群 (clean room facility) |
| 設置機関 | 北陸先端科学技術大学院大学（JAIST） |
| 設置場所 | JAISTナノマテリアルテクノロジーセンター |
| メーカー名 | |
| 型番 | |
| キーワード | N. 成膜装置/ Deposition equipment 原子層堆積（ALD）装置/ Atomic layer deposition (ALD) コーター（スピン、ディップ、スプレイなど）/ Coater スパッタリング（スパッタ）/ Sputtering 蒸着（抵抗加熱、電子線）/ Evaporation (resistance heating and electron beam) MBE（分子線エピタキシー）/ Molecular beam epitaxy (MBE) P. リソグラフィ/ Lithography 光露光（マスクアライナ）/ Optical exposure (mask aligner) 光露光（マスクレス、直接描画）/ Optical exposure (maskless and direct drawing) 電子線描画（EB）/ Electron beam lithography Q. 膜加工・エッチング/ Film processing and Etching プラズマエッチング/ Plasma etching R. 熱処理・ドーピング/ Thermal treatment and Doping 酸化/ Oxidation 拡散/ Diffusion イオン注入/ Ion implantation 熱処理、レーザーアニール/ Thermal treatment and laser annealing 薄膜 パターニング デバイス |
| 仕様・特徴 | EBL(30kV, 50kV)、マスクレス露光機(405nm, 375nm)、抵抗加熱蒸着、EB蒸着、RFスパッタ、ECRスパッタ、ALD、MBE、RIE、イオン注入、赤外ランプアニールなど |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=JI-017 |
