薄膜応力測定装置 [FLX-2000-A]
最終更新日：2023年5月10日
| 設備ID | NM-628 |
|---|---|
| 分類 |
機械特性 > その他 成膜装置 > その他 |
| 設備名称 | 薄膜応力測定装置 [FLX-2000-A] (Thin-Film Stress Tester [FLX-2000-A]) |
| 設置機関 | 物質・材料研究機構 (NIMS) |
| 設置場所 | NIMS千現地区 材料信頼性実験棟 |
| メーカー名 | 東朋テクノロジー (Toho Technology) |
| 型番 | FLX-2000-A |
| キーワード | 薄膜応力、応力測定、レーザー、マッピング |
| 仕様・特徴 | ・用途：薄膜応力測定 ・測定方式：レーザースキャン方式（670nm＆750nm半導体レーザー） ・測定範囲：1～4000MPa ・測定再現性：1.3MPa（1σ） ・試料サイズ：φ3inch, φ6inch, φ8inch ・その他：3Dマッピング機能 |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=NM-628 |
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