イオンスパッタ [E-1045]
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最終更新日：2024年8月28日
| 設備ID | NM-627 |
|---|---|
| 分類 |
成膜装置 > スパッタリング（スパッタ） 表面処理・洗浄 > その他 |
| 設備名称 | イオンスパッタ [E-1045] (Ion Sputter [E-1045]) |
| 設置機関 | 物質・材料研究機構 (NIMS) |
| 設置場所 | NIMS千現地区 材料信頼性実験棟 |
| メーカー名 | 日立ハイテク (Hitachi High-Tech) |
| 型番 | E-1045 |
| キーワード | SEM、前処理、プラチナ、白金、帯電防止 |
| 仕様・特徴 | ・用途：SEM，FIB-SEMの前処理 ・成膜材料：プラチナ／カーボン ・プラチナ成膜方式：ダイオード放電マグネトロン型 ・カーボン成膜方式：直接通電加熱蒸着 ・最大試料サイズ：φ60mm |
| 設備状況 | 共用を終了した設備です |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=NM-627 |
![イオンスパッタ [E-1045]](data/facility_item/NM-627.jpg)